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PVD(Physical Vapor Deition),在真空条件下,采用物理方法,使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
蒸发镀膜
真空条件下,将镀料加热蒸发或升华,材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。
采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术,一般用于蒸发低熔点材料,如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用钨、钼、钽等。
直流二级离子镀,是稳定的辉光放电;空心阴极离子镀与热丝弧离子镀,是热弧光放电,产生电子的原因均可简单概括为金属材料由于被加热到很高的温度,导致核外电子的热发射;阴极电弧离子镀的放电类型与前面几种离子镀的放电类型均不相同,它采用的是冷弧光放电。在众多离子镀膜技术中阴极电弧离子镀可谓是其中的集大成者,其目前已经逐步发展为硬质薄膜领域的主力。PVD技术的应用范围及优缺点其应用范围是:1)碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料。产生原因:产品周转运输或在炉内生产时素材受到污染,产品表面有尘点、毛丝等,PVD出炉后灰尘脱落露出底材颜色。
解决方案:缩短产品在炉外停滞时间及炉内洁净度管控,减少异物掉落在产品表面。
产生原因:主要原因是产品表面脏污,膜层无法在产品上沉积或结合力差,在自然或人为的因素下产品表面漏出底材。
解决方案:将产品清洗干净,避免污染产品,确保表面洁净度。
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