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氮化钛是镀钛涂层工艺的一种,通常情况下,这种氮化钛的颜色为金色,氮化钛不仅性能优异,且它的硬度还高达2300HV,在化工、材料等行业中运用十分广泛,那么,氮化钛涂层有哪些特点呢
氮化钛通常都是金色,其工作的温度可承受的限度为580摄氏度,可以适应于低温涂层,0.23VSNi的摩擦系数可以有效的减少摩擦力,适合于低温零件中使用,
PVD (Physical Vapor Deition) 即物理气相沉积,分为:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ,指的就是真空离子镀膜;通常说的NCVM镀膜,就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。真空蒸镀基本原理:在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子束轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历,真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。镀W砂,W与金刚石界面形成W2C化学键合,而且W-Ni相容性优异,有利于砂与基线镀层的结合,所以镀W砂也是很有潜力的线锯原材料。较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。这种技术在刚开始使用时,就在*的工具制造业引起了巨大的反响,受到了高度重视。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
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