价格: | 来电议定 |
点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面,热
缺点电子*结构复杂,造价高化合物沉积时易分解,化学比失调
3激光蒸发镀膜
采用高能激光束对材料进行蒸发,用以形成薄膜的方法,一般称为激光蒸镀。
优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物,膜层的化学计量比与靶材保持一致
缺点
易产生微小颗粒飞溅,影响薄膜质量
此外,多弧镀涂层颜色较为稳定,尤其是在做 TiN 涂层时,每一批次均容易得到相同稳定的金黄色,令磁控溅射法望尘莫及。多弧镀的不足之处是,在用传统的 DC 电源做低温涂层条件下,当涂层厚度达到0.3μm 时,沉积率与反射率接近,成膜变得非常困难。而且,薄膜表面开始变朦。多弧镀另一个不足之处是,由于金属是熔后蒸发,因此沉积颗粒较大,致密度低,耐磨性比磁控溅射法成膜差。在二十世纪七十年代末,人类就已经开始物理气相沉积技术,即PVD技术。古铜色
劈裂电弧涂层 ,含Si纳米复合涂层 , 极高抗热性能 ,适合硬切削,纳米硬度4300Hv,纳米厚度1~3μm。摩擦系数0.3。应用温1200℃.加工硬度可达65HRC.
用途:特适合加工淬火、钢淬火硬钢、不锈钢、沉淀硬化不锈钢
8)黑色
劈裂电弧涂层,纳米厚度1-3μm,加工硬度可达58HRC.
用途:特适合加工不锈钢、钛合金、沉淀硬化不锈钢、铜合金、铝合金
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