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PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层:
装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀;硬质膜层用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命。
除油—去污—流水冲洗—去离子水冲洗—脱水
过清洗线后将工件挂到PVD治具上,放入烤箱烘烤干燥
薄膜的制备方法很多,主要有气相法和液相法,其中气相法又分为物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两大类。PVD(Physical Vapor Deition),在真空条件下,采用物理方法,使材料源表面气化成原子、分子或离子,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。
蒸发镀膜
真空条件下,将镀料加热蒸发或升华,材料的原子或分子直接在衬底上成膜的技术。根据加热方法的不同主要有以下几种蒸发镀膜技术。
采用电阻加热蒸发源的蒸发镀膜技术,一般用于蒸发低熔点材料,如铝、金、银、硫化锌、氟化镁、三氧化二铬等;加热电阻一般采用钨、钼、钽等。
感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定,不易产生飞溅现象坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中,高能粒子轰击材料表面,使其原子获得足够的能量而逸出表面,到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比,溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜,因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
溅射镀膜基本原理:充(Ar)气的真空条件下,使气进行辉光放电,这时(Ar)原子电离成离子(Ar ),离子在电场力的作用下,加速轰击以镀料制作的阴极靶材,靶材会被溅射出来而沉积到工件表面。 溅射镀膜中的入射离子,一般采用辉光放电获得,在l0-2Pa~10Pa范围,所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中,易和真空室中的气体分子发生碰撞,使运动方向随机,沉积的膜易于均匀。4、真空镀膜材料:目前真空镀膜常规材料大致有:碳化钛、氮化钛、碳氮化钛等,可以满足市面常规(普通)的镀膜需要,比较的镀膜材料有氮化钛铝,氮化铬膜等,用于加工比较复杂、的颜色。温馨提示:以上是关于阜阳真空不锈钢镀钛怎么收费询问报价 金常来诚信企业推荐的详细介绍,产品由商丘金常来金属制品有限公司为您提供,如果您对商丘金常来金属制品有限公司产品信息感兴趣可以联系供应商或者让供应商主动联系您 ,您也可以查看更多与建筑/建材相关的产品!
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