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商丘金常来金属制品有限公司
主营：金属制品加工销售
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5、表面若被漂白剂或者酸附着，立即用水冲洗，再用或中性碳酸苏打水溶液浸洗，用中性洗涤剂或温水洗涤。
6、表面有彩虹纹，是过多使用洗涤剂或油引起，洗涤时用温水中性洗涤剂可洗去。
7、禁止使用含漂白成分以及研磨剂的洗涤液、钢丝球、研磨工具等来清洗，为避免残余洗涤液，腐蚀表面，洗涤结束时要用洁净水冲洗表面。
8、禁止产品接触强酸强碱的化学物品。
射频溅射
采用射频电源代替直流电源，在靶和衬底间施加高频电压，溅射时，靶极会产生自偏压效应（即靶极会自动处于负电位状态），使绝缘靶的溅射得到维持。常用的频率约为13.56兆赫。
优点可以溅射所有材料，包括导体和绝缘体溅射可大规模生产
磁控溅射
磁控溅射通过在靶阴极表面引入正交电磁场，把二次电子束缚在靶表面，成螺旋状运行来增强电离效率，增加离子密度和能量以增加溅射率。电源方面可同时配备直流和射频两种。
基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.
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第5年
