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感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定,不易产生飞溅现象坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中,高能粒子轰击材料表面,使其原子获得足够的能量而逸出表面,到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比,溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜,因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
带正电荷的蒸发料离子,在阴极吸引下,随同离子一同冲向工件,当抛镀于工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时,则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。这就是离子镀的简单作用过程。PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件:接通直流电源,气进行辉光放电为离子,离子轰击工件表面,工件表层粒子和脏物被轰溅抛出;
(2)镀料的气化:即通入交流电后,使镀料蒸发气化。
增强型磁控阴极弧:阴极弧技术是在真空条件下,通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态,从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用,将靶材表面的电弧加以有效地控制,使材料的离化率更高,薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧:过滤阴极电弧(FCA )配有的电磁过滤系统,可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净,经过磁过滤后沉积粒子的离化率为,并且可以过滤掉大颗粒, 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蚀性能好,与机体的结合力很强。
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