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清洗时注意不要用粗糙或尖锐的物料去擦洗产品表面,特别是镜光的,要用柔软一点的、不易脱毛的绒布去擦洗,砂钢和拉丝表面,要顺着纹路去擦,不然很容易搞花表面。
3、表面有灰尘以及易除掉污垢物的,可用绒布、清水来清洗;对于粘结剂成份,使用酒精和(、苯)擦洗。
4、表面的油脂、油、润滑油污染,用绒布擦干净以后用中性洗涤剂、或用洗涤剂清洗。
离子镀基本原理:在真空条件下,采用某种等离子体电离技术,使镀料原子部分电离成离子,同时产生许多高能量的中性原子,在被镀基体上加负偏压。这样在深度负偏压的作用下,离子沉积于基体表面形成薄膜。
九、离子镀的工艺过程:蒸发料的粒子作为带正电荷的高能离子在高压阴极(即工件)的吸引下,以很高的速度注入到工件表面。
溅射技术:
溅射技术按产生等离子体的方式可分为:
a. 利用直流辉光放电的二极溅射;
b. 利用热丝弧光放电的三极溅射;
c. 利用射频放电的射频溅射;
d. 利用封闭跑道磁场控制辉光放电的磁控溅射.
2 磁控溅射阴极结构:
目前工业用磁控溅射装置主要是采用矩形平面磁控溅射阴极(图a),一般使用的靶材尺寸有两种规格: VT机:长×宽×厚(450.5×120×6)mm; ZCK机: 460×100×6.圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b),两者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低.
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