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PVD是英文Physical VaporDeition(物理气相沉积)的缩写,是指在真空中将钛、金、石墨、水晶等金属或非金属、气体等材料利用溅射、蒸发或离子镀等技术,在基材上沉积形成不同颜色和质感的薄膜。PVD膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上,对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应*行化学电镀铬,然后才适合镀PVD,但是水镀后做PVD容易起泡,不良率较高。PVD膜层赋予产品表面金属质感和丰富的颜色,并改善耐磨、耐腐蚀性,延长寿命。已经广泛应用于表壳、表带、手机壳、建筑五金、模具刀具等产品。
其缺点是:
1)工艺比传统单色PVD的更为复杂,流程更为繁杂,生产难度高;
2)生产良率低,大约为65~70%(传统单色PVD的生产良率一般为85~90%;
3)价格会比传统单色PVD的高50~60%;
4)因工艺和流程的影响,双色PVD生产限制较多,受产品结构的影响较大,而传统单色PVD则几乎不受限制
现代涂层设备(均匀加热技术、温度测量技术、非平衡磁控溅 射技术、辅助阳极技术、中频电源、脉冲技术) 现代涂层设备主要由真空室、真空获得部分、真空测量部分、电源供给部分、工艺气体输入系统、机械传动部分、加热及测温部件、离子蒸发或溅射源、水冷系统等部分组成。电弧蒸发镀膜在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电,利用电弧高温使电极材料蒸发。
与不同的气体发应形成一种薄膜涂层。今天所使用的大多数PVD方法是电弧和溅射沉积涂层。这两种过程需要在高度真空条件下进行。Ionbond 阴极电弧PVD涂层技术在20世纪70年代后期由前苏联发明,如今,绝大多数的刀模具涂层使用电弧沉积技术。
工艺温度:典型的PVD涂层加工温度在250℃— 450℃之间,但在有些情况下依据应用领域和涂层的质量,PVD涂层温度可低于70℃或高于600℃进行涂层。
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