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镀钛处理工艺是使用多种材料的涂层技术,其加工温度需保持在150摄氏度以上,但不能超过500摄氏度。镀钛不仅能使工具丰富多彩,也是工具达到一定硬度的效果,采用PVD技术,使工具具有优异的性能。
镀钛是一种通用涂层加工工艺,很多人对于镀钛的主要特点不是很了解,那么,镀钛的主要特点是什么呢
1、镀钛指的是在温度较高的钛金炉内,将钛、锆等金属除去空气,同时凭借惰性气体的辉光放电
PVD (Physical Vapor Deition) 即物理气相沉积,分为:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。我们通常所说的PVD镀膜 ,指的就是真空离子镀膜;通常说的NCVM镀膜,就是指真空蒸发镀膜和真空溅射镀。不锈钢在镀钛加工时发现冷轧板比热轧板处理往后的外表要细腻,更漂亮,更简单做外表处理,拉丝,镜面,镀钛加工对比较薄的都是冷轧,比较厚的就是热轧了可是对镀钛加工厂家来说冷轧比热轧的本钱要贵一些。真空蒸镀基本原理:在真空条件下,使金属、金属合金等蒸发,然后沉积在基体表面上,蒸发的方法常用电阻加热,电子束轰击镀料,使蒸发成气相,然后沉积在基体表面,历,真空蒸镀是PVD法中使用早的技术。较为成熟的 PVD 方法主要有多弧镀与磁控溅射镀两种方式。多弧镀设备结构简单,容易操作。可见,多弧镀膜与磁控溅射法镀膜各有优劣,为了尽可能地发挥它们各自的*性,实现互补,将多弧技术与磁控技术合而为一的涂层机应运而生。它的离子蒸发源靠电焊机电源供电即可工作,其引弧的过程也与电焊类似,具体地说,在一定工艺气压下,引弧针与蒸发离子源短暂接触,断开,使气体放电。由于多弧镀的成因主要是借助于不断移动的弧斑,在蒸发源表面上连续形成熔池,使金属蒸发后,沉积在基体上而得到薄膜层的,与磁控溅射相比,它不但有靶材利用率高,更具有金属离子离化率高,薄膜与基体之间结合力强的优点。磁控溅射是70年代在阴极溅射的基础上发展起来的一种新型溅射镀膜法,由于它有效地克服了阴极溅射速率低和电子使基片温度升高的致命弱点,因此获得了迅速的发展和广泛的应用.
1. 磁控溅射:
离子轰击靶材将靶面原子击出的现象称为溅射.溅射产生的原子沉积在基体(工件)表面即实现溅射镀膜.
磁控溅射的基本原理:
磁控溅射是在溅射区加了与电场方向垂直的磁场,处于正交电场区E和磁场B中的电子的运动方程,
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