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PVD镀钛通常称谓:镀钛,镀钛厂,镀膜,真空镀钛,镀铬,镀钛加工,PVD,表面处理,钛板,表面处理加工,真空镀膜加工,表面处理,PVD涂层,模具镀钛,纳米涂层,真空电镀,零件镀钛,精密模具镀钛,冲压模具镀钛,压铸模具镀铬,耐磨涂层,真空镀钛,镀钛涂层,离子镀钛,真空涂层,冲棒镀钛,五金模具镀钛,塑胶模镀钛,纳米镀钛,金属表面处理等.
金属表面处理PVD镀钛特点:增寿、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、强抗腐蚀性、抗高温、抗黏着性等*的使用性能广泛应用于模具工业中。其缺点是:
1)工艺比传统单色PVD的更为复杂,流程更为繁杂,生产难度高;
2)生产良率低,大约为65~70%(传统单色PVD的生产良率一般为85~90%;
3)价格会比传统单色PVD的高50~60%;
4)因工艺和流程的影响,双色PVD生产限制较多,受产品结构的影响较大,而传统单色PVD则几乎不受限制
现代涂层设备(均匀加热技术、温度测量技术、非平衡磁控溅 射技术、辅助阳极技术、中频电源、脉冲技术) 现代涂层设备主要由真空室、真空获得部分、真空测量部分、电源供给部分、工艺气体输入系统、机械传动部分、加热及测温部件、离子蒸发或溅射源、水冷系统等部分组成。面对这些严格要求,传统的零件加工办法和表面处理技术已经达不到标准。
基片置于合适的位置是获得均匀薄膜的前提条件.
b、压强的大小. 为了保证膜层质量,压强应尽可能低Pr≦(Pa)
L表示蒸发源到基片的距离为L(cm)。
c、蒸发速率.蒸发速率小时,沉积的膜料原子(或分子)上立刻吸附气体分子,因而形成的膜层结构疏松,颗粒粗大,缺陷多;反之,膜层结构均匀致密,机械强度高,膜层内应力大.
d、基片的温度.在通常情况下,基片温度高时,吸附原子的动能随之增大,形成的薄膜容易结晶化,并使晶格缺陷减少;基片温度低时,则没有足够大的能量供给吸附原子,因而容易形成无定形态薄膜.
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