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感应加热式蒸发镀膜
利用高频电磁场感应加热,使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
优点蒸发速率大,可比电阻蒸发源大10倍左右 蒸发源的温度稳定,不易产生飞溅现象坩埚温度较低,坩埚材料对膜导污染较少缺点蒸发装置必须屏蔽造价高、设备复杂
在真空中,高能粒子轰击材料表面,使其原子获得足够的能量而逸出表面,到达衬底凝结成膜的技术。
与真发镀膜相比,溅射镀膜适用于所有(包括高熔点)材料,具有附着力强、成分可控、易于规模化生产等优点。
但其工作气压低于蒸发镀膜,因此膜层的含气量和孔隙率大于蒸发镀膜。
在靶材和衬底之间加上一个直流高压,极板间的气体(一般为Ar2)电离,高速带电离子轰击靶材表面的溅射镀膜技术。要保持自持放电,在两极板间距为数厘米的正常溅射间距下,放电气压一般高达10帕,这对溅射效率和薄膜质量都是不利的。PVD真空镀层按照膜层应用来分类可分为装饰膜层和硬质膜层:装饰膜层可以改善工件外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀。因此,直流溅射多采用非自持放电,也就是加入热电子发射极和辅助阳极的四极溅射,可使溅射在10-1~10-2帕的低气压下进行。镀层附着性能好
普通真空镀膜时,在工件表面与镀层之间几乎没有连接的过渡层,好似截然分开。圆柱形磁控溅射阴极也逐步运用到生产当中(图b),两者相比,平面靶材的利用率只有20~30%,即利用率低。而离子镀时,离子高速轰击工件时,能够穿透工件表面,形成一种注入基体很深的扩散层,离子镀的界面扩散深度可达四至五微米,对离子镀后的试件作拉伸试验表明,一直拉到快要断裂时,镀层仍随基体金属一起塑性延伸,无起皮或剥落现象发生,可见附着多么牢固,膜层均匀,致密。
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