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将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中,通过各种方法(如机械混合法)等将其混合均匀,得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。
(6)在镁碳砖中添加一定量的TiN,能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。
(7)氮化钛是一种优良的结构材料,可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金,凸显了氮化钛优异的应用效果。 次数用完API KEY 超过次数限制
不同应用时输出镜有不同透过率的要求,因此必须采用光学镀膜方法。对于CO2激光灯中红外线波段,常用的镀膜材料有氟化钇、氟化镨、锗等;对于YAG激光灯近红外波段或可见光波段,常用的镀膜材料有硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外,还可以镀对某波长增反射、对另一波长增透射的特殊膜,如激光倍频技术中的分光膜等。光学镀膜基本原理光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。 次数用完API KEY 超过次数限制
测试方法:连续对镀膜室抽气24h这一时间段之间,测定出过程中的压力zui低值,则定为该设备的极限压力。如果压力变化值在0.5h内没有超过5%的波动,则取zui高测量表读数值作为极限压力值。二、镀膜室抽气时间的测定1、试验条件:与上述极限压力测定的试验条件的(1)~(4)相同。2、测试方法:在连续抽气的前提之下,待至镀膜室内达到极限压力,再将镀膜室打开15min,然后将镀膜室关闭,再次将镀膜室抽气至规定的压力标准,此间这段所需的时间,就是该设备的抽气时间。 次数用完API KEY 超过次数限制
蒸发镀膜过程中,从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动,直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内,当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时,这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行,否则,就会产生碰撞而改变运动方向。为此,增加残余气体的平均自由程,以减少其与蒸发粒子的碰撞几率,把真空室内抽成高真空是必要的。当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时,就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L,并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程,λ为气体分子的平均自由程,设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0,在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1,而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射,则有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次数用完API KEY 超过次数限制
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