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电子束蒸发镀膜
利用高速电子束加热使材料汽化蒸发,在基片表面凝结成膜的技术。电子束热源的能量密度可达104-109w/cm2,可达到3000℃以上,可蒸发高熔点的金属或介电材料如钨、钼、锗、SiO2、AL2O3等。
电子束加热的蒸镀源有直*型电子*和e型电子*两种(也有环行),电子束自源发出,用磁场线圈使电子束聚焦和偏转,对膜料进行轰击和加热。
氮化铬涂层 (CrN)
CrN涂层具有良好的抗粘结性,抗腐蚀性,耐磨性。
用途:加工铝合金,红铜的刀具,注塑模具,零件(特别是有润滑油浸泡)
5)DLC
DLC涂层的组成为TIN+TICN+DLC结构。具有摩擦系数较低,
耐磨损,膜层应力小好等优点
用途:润滑涂层,成型模具,铝合金等粘结性强材料冲压模具。
6)ZrN
ZrN不含Ti和Cr的单成膜,有较高的耐热性,涂层颜色艳丽,在加工铝钛合金时可有效减少切削瘤
靶材承受的功率密度是有限的.靶面温度过高会导致靶材熔化或引起弧光放电.在直接水冷的情况下,金属靶材的靶功率密度允许值为10~30W/cm2.根据选定的靶电压和允许的靶功率密度,即可确定靶电流密度.
降低Ar压强有利于提高镀膜速率,还有利于提高膜层结合力和膜层致密度.磁控溅射的Ar压强通常选为0.5Pa,气体放电的阻抗随Ar压强的降低而升高.磁控溅射时,可以适当调节Ar压强,
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