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商丘金常来金属制品有限公司
主营：金属制品加工销售
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| 价格： | 来电议定 |
电弧蒸发镀膜
在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，利用电弧高温使电极材料蒸发。电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
优点薄膜纯度高造价低适用于具有一定导电性的难熔金属、石墨等
缺点
会飞溅出微米级的靶材料颗粒，影响薄膜质量
利用高频电磁场感应加热，使材料汽化蒸发在基片表面凝结成膜的技术。
PVD技术四个工艺步骤
(1)清洗工件：接通直流电源，气进行辉光放电为离子，离子轰击工件表面，工件表层粒子和脏物被轰溅抛出；
(2)镀料的气化：即通入交流电后，使镀料蒸发气化。
增强型磁控阴极弧：阴极弧技术是在真空条件下，通过低电压和高电流将靶材离化成离子状态，从而完成薄膜材料的沉积。增强型磁控阴极弧利用电磁场的共同作用，将靶材表面的电弧加以有效地控制，使材料的离化率更高，薄膜性能更加优异。
过滤阴极弧：过滤阴极电弧(FCA )配有的电磁过滤系统，可将离子源产生的等离子体中的宏观粒子、离子团过滤干净，经过磁过滤后沉积粒子的离化率为，并且可以过滤掉大颗粒， 因此制备的薄膜非常致密和平整光滑，具有抗腐蚀性能好，与机体的结合力很强。
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第5年
