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镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜,或镀一层金属膜,目的是改变材料表面的反射和透射特性。在可见光和红外线波段范围内,大多数金属的反射率都可达到78%~98%,但不可高于98%。无论是对于CO2激光,采用铜、钼、硅、锗等来制作反射镜,采用锗、chen化jia、硒化锌作为输出窗口和透射光学元件材料,还是对于YAG激光采用普通光学玻璃作为反射镜、输出镜和透射光学元件材料,都不能达到全反射镜的99%以上要求。 次数用完API KEY 超过次数限制
高反射膜从大口径的天文望远镜和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜茉莉,都很需要增透膜则大量用于照相和各种激光器开始、一直到新型建筑物的大窗镀膜玻璃,都很需要。增透膜则大量用于照相机和电视摄象机的镜头上。在电子学方面真空镀膜更占有极为重要的地位。各种规模的继承电路。包括存贮器、运算器、告诉逻辑元件等都要采用导电膜、绝缘膜和保护膜。作为制备电路的掩膜则用到铬膜。磁带、磁盘、半导体激光器,约瑟夫逊器件、电荷耦合器件(CCD)也都甬道各种薄膜在显示器件方面,录象磁头、高密度录象带以及平面显示装置的透明导电膜、摄像管光导膜、显示管荧光屏的铝衬等也都是采用真空镀膜法制备。 次数用完API KEY 超过次数限制
通过溅射工艺涂覆薄膜有几个特点:金属,合金或绝缘体可以制成薄膜材料。相同组成的薄膜可以在适当的设置条件下由多个复杂的靶材制成。通过在放电气氛中添加氧气或其他活性气体,可以生产目标材料和气体分子的混合物或化合物。可以控制目标输入电流和溅射时间,并且容易获得高精度的膜厚。与其他工艺相比,有利于生产大面积的均匀薄膜。溅射的粒子不受重力影响,并且靶和基板的位置可以自由地布置。基材与薄膜之间的粘合强度是普通气相沉积薄膜的10倍以上,并且由于溅射的粒子具有高能量,因此表面将继续在成膜表面上扩散以获得坚硬而致密的表面电影。 次数用完API KEY 超过次数限制
在信息存储领域中薄膜材料作为信息记录于存储介质,有其得天独厚的优势:由于薄膜很薄,可以忽略涡流损耗;磁化反转极为迅速;与膜面平行的双稳态状态容易保持等。为了更精密地记录与存储信息,必然要采用镀膜技术。13.在传感器方面在传感器中,多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说,极为敏感的半导体材料。此外,其中,大多数利用的是半导体的表面、界面的性质,需要尽量增大其面积,且能工业化、*格制作,因此,采用薄膜的情况很多。14.在集成电路制造中晶体管路中的保护层(SiO2、Si3N4)、电极管线(多晶硅、铝、铜及其合金)等,多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见,气相沉积是制备集成电路的*技术之一。 次数用完API KEY 超过次数限制
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